
適配濃度:95%~98%
典型物料:普通金屬零件(如碳鋼、鋁合金)的高溫除油、烘干;部分塑料件(如 PP、PE)的高溫定型。
設(shè)定邏輯:這類物料在高溫下氧化速度較慢,低濃度氮氣即可阻斷大部分空氣(空氣中氧氣約 21%),避免明顯氧化變色或性能衰減,同時降低高純度氮氣的使用成本。
注意:若處理后需保持金屬表面光澤,建議濃度不低于 97%。
適配濃度:98%~99.5%
典型物料:電子元件(如 PCB 電路板、電容)的高溫老化;鋰電池極片(未注液前)的干燥;樹脂 / 復(fù)合材料的高溫固化。
設(shè)定邏輯:物料中的關(guān)鍵成分(如電路板焊盤、電池極片活性物質(zhì))對氧氣敏感,高溫下易氧化導(dǎo)致性能失效(如焊盤氧化影響導(dǎo)電性、極片氧化降低電池容量),需較高濃度氮氣將殘留氧氣量控制在 0.5%~2% 以內(nèi)。
行業(yè)參考:鋰電池極片干燥通常要求氮氣濃度≥99%,部分企業(yè)會提升至 99.5% 以確保水分與氧氣雙低。
適配濃度:99.9%~99.999%(即 3N~5N 純度)
典型物料:半導(dǎo)體芯片(如硅片、晶圓)的高溫處理;貴金屬零件(如金、銀觸點)的烘烤;藥品 / 食品(如保健品、易氧化零食)的低溫干燥;粉末冶金(如鈦合金粉末)的燒結(jié)。
設(shè)定邏輯:物料價值高或?qū)ρ趸瘶O度敏感,即使微量氧氣(如 0.1% 以下)也會導(dǎo)致不可逆損壞(如芯片氧化影響電路性能、貴金屬氧化變色、藥品氧化失效),需高純度氮氣將殘留氧氣量控制在 100ppm~10ppm 以內(nèi)。
特殊要求:部分半導(dǎo)體場景會搭配 “氮氣循環(huán)凈化系統(tǒng)",實時監(jiān)測并補充高純度氮氣,維持濃度穩(wěn)定在 99.999%。


電子行業(yè):IPC 標(biāo)準(zhǔn)中,PCB 高溫烘烤推薦氮氣濃度≥99%;
半導(dǎo)體行業(yè):SEMI 標(biāo)準(zhǔn)中,硅片熱處理要求氮氣純度≥99.999%;
食品行業(yè):GB 7718 中,充氮食品加工環(huán)境氮氣濃度需≥98%,且氧氣殘留≤2%。

